Z przyjemnością informujemy, że dwa plakaty autorstwa dr Aliny Ostach-Robakowskiej, dziekan Wydziału Architektury i Wzornictwa Politechniki Koszalińskiej, zostały wyróżnione na 3. Międzynarodowym Biennale Sztuki Plakatowej – B.I. International Poster Art w Korei Południowej.

Biennale to jedno z najważniejszych wydarzeń w świecie designu, gromadzące artystów z całego świata, którzy poprzez swoje prace komentują współczesne wyzwania społeczne, kulturowe i polityczne. Na tegoroczną edycję wpłynęło 4026 plakatów od 1316 artystów z 67 krajów.

Gratulujemy!